美國(guó)考夫曼公司中空陰極中和器霍爾離子源 EH 3000HC已成功被應(yīng)用于應(yīng)用于直徑 2.2米天文望遠(yuǎn)鏡鏡片離子輔助鍍膜工藝 (Ion Beam Assisted Deposition, IBAD). EH 3000HC 離子束具有業(yè)界中最高廣角的涵蓋面積及最高密度的離子濃度, 在離子輔助鍍膜工藝鍍膜中可以獲得高均勻性及高致密性的膜層.

實(shí)際案例:

設(shè)備: 3米蒸鍍鍍膜機(jī).

基材: 2.2米天文望遠(yuǎn)鏡鏡片.

離子源條件: Vb: 120V(離子束陽(yáng)極電壓), Ib: 14A(離子束陽(yáng)極電流), O2 gas: 45sccm(氧氣).

圖片:

KRI 霍爾離子源 eH 3000
上海伯東代理美國(guó)原裝進(jìn)口 KRI 霍爾離子源 eH 3000 最適合大型真空系統(tǒng), 與友廠大功率離子源對(duì)比, eH 3000 是目前市場(chǎng)上最高效, 提供最高離子束流的離子源.
尺寸: 直徑= 9.7“ 高= 6”
放電電壓 / 電流: 50-300V / 20A
操作氣體: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有機(jī)前體

KRI 霍爾離子源 eH 3000 特性
? 水冷 - 加速冷卻
? 可拆卸陽(yáng)極組件 - 易于維護(hù); 維護(hù)時(shí),最大限度地減少停機(jī)時(shí)間; 即插即用備用陽(yáng)極
? 寬波束高放電電流 - 高電流密度; 均勻的蝕刻率; 刻蝕效率高; 高離子輔助鍍膜 IAD 效率
? 多用途 - 適用于 Load lock / 超高真空系統(tǒng); 安裝方便
? 高效的等離子轉(zhuǎn)換和穩(wěn)定的功率控制

上海伯東是美國(guó)考夫曼離子源 Kaufman & Robinson, Inc 中國(guó)總代理. 美國(guó) KRI 霍爾離子源已廣泛應(yīng)用于離子輔助鍍膜應(yīng)用(IBAD), 高密度的離子濃度, 廣角度涵蓋面積的離子束, 可控制離子的強(qiáng)度及濃度可獲得高質(zhì)量的膜層拋. KRI 霍爾源系列可依客戶鍍膜機(jī)尺寸及基材尺寸及工藝條件選擇相關(guān)型號(hào):

KRI End Hall (霍爾離子源) 型號(hào): EH400, EH1000, EH2000, EH3000.

上海伯東是德國(guó) Pfeiffer 真空泵, 檢漏儀, 質(zhì)譜儀, 真空計(jì), 美國(guó) KRI 考夫曼離子源, 美國(guó) inTEST 高低溫沖擊測(cè)試機(jī), 美國(guó) Ambrell 感應(yīng)加熱設(shè)備和日本 NS 離子蝕刻機(jī)等進(jìn)口知名品牌的指定代理商.

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