常用的固體潤滑劑MoS₂涂層蒸氣氣壓低、遷移性弱, 作為固體潤滑劑的航空航天領(lǐng)域. 真空環(huán)境中得到廣泛的應用, 在2000℃真空環(huán)境中依然具有很低的摩擦因數(shù).

隨著科技發(fā)展, 離子源技術(shù)引入物理氣相沉積技術(shù), 用于工模具涂層材料制備, 一直是 PVD 涂層技術(shù)的研究熱點.

離子源在涂層制備過程中首先可以清洗襯底獲得清潔的表面, 其次高的離子/原子比率有利于獲得高性能的涂層.

某大型研究結(jié)構(gòu)采用 KRI 射頻離子源用于研究離子源輔助制備MoS₂ 自潤滑涂層. 其系統(tǒng)示意圖如下:

其中 KRI 射頻離子源安裝在右側(cè)，左側(cè)為鉬靶, 真空泵安裝在真空腔體里側(cè).

客戶采用伯東 KRI 射頻離子源 RFICP 380, 同時為了獲得穩(wěn)定的合適的真空環(huán)境, 伯東工程師為制造商搭配大抽速分子泵組 Hicube 700 Pro, 采用金屬密封, 極限真空度可達1x10-7hpa, 抽速可達 685 L/s.

美國 KRI 射頻離子源 RFICP 380 特性:

1. 大面積射頻離子源

2. 提供高密度離子束, 滿足高工藝需求

3. 采用射頻技術(shù)產(chǎn)生離子, 無需電離燈絲, 工藝時間更長, 更適合時間長的工藝要求

4. 離子束流: >1500 mA

5. 離子動能: 100-1200 V

6. 中和器: LFN 2000

7. 采用自動控制器, 一鍵自動匹配

8. RF Generator 可根據(jù)工藝自行選擇離子濃度, EX: 1kW or 2kW

9. 離子源采用模塊化設(shè)計, 方便清潔/ 保養(yǎng)/ 維修/ 安裝

10. 柵極材質(zhì)鉬和石墨, 堅固耐用

11. 通入氣體可選 Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, others

運行結(jié)果：

KRI 射頻離子源 RFIC 380成功用于輔助制備MoS₂自潤滑涂層, 對MoS₂涂層有減膜作用,大大提高了MoS₂涂層潤滑.

上海伯東是美國考夫曼公司 KRI 離子源的國內(nèi)總代理商, 其中KRI 離子源主要型號有:

KRI 射頻離子源 RFICP 系列： RFICP 380、RFICP 220、RFICP 140 、RFICP 100、 RFICP 40

KRI 考夫曼離子源 Gridded KDC 系列： KDC 160、KDC 100、KDC 75、KDC 40、KDC 10

KRI 霍爾離子源 Gridless eH 系列:eH 3000、eH 2000、eH 1000、eH 400、eH Linear

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