蒸鍍是在真空狀態(tài)下, 將鍍料加熱蒸發(fā)或者升華, 使之在工件或基體表面沉積的工廠, 蒸鍍具有簡(jiǎn)單便利、操作容易、沉積速率快等優(yōu)點(diǎn), 但存在膜基結(jié)合力不理想, 膜層不致密的缺點(diǎn).

為了解決蒸鍍的缺點(diǎn), 某國(guó)內(nèi)精密儀器鍍膜制造商采用伯東 KRI 離子源進(jìn)行輔助蒸鍍.

該制造商采用伯東 KRI 射頻離子源 RFICP 380, 同時(shí)為了為鍍膜工業(yè)提供穩(wěn)定的合適的真空環(huán)境, 伯東工程師為制造商搭配大抽速分子泵組 Hicube 700 Pro, 采用金屬密封, 極限真空度可達(dá)1x10-7hpa, 抽速可達(dá) 685 L/s, 很好保證成膜質(zhì)量.

美國(guó) KRI 射頻離子源 RFICP 380 特性:

1. 大面積射頻離子源

2. 提供高密度離子束, 滿足高工藝需求

3. 采用射頻技術(shù)產(chǎn)生離子, 無需電離燈絲, 工藝時(shí)間更長(zhǎng), 更適合時(shí)間長(zhǎng)的工藝要求

4. 離子束流: >1500 mA

5. 離子動(dòng)能: 100-1200 V

6. 中和器: LFN 2000

7. 采用自動(dòng)控制器, 一鍵自動(dòng)匹配

8. RF Generator 可根據(jù)工藝自行選擇離子濃度, EX: 1kW or 2kW

9. 離子源采用模塊化設(shè)計(jì), 方便清潔/ 保養(yǎng)/ 維修/ 安裝

10. 柵極材質(zhì)鉬和石墨, 堅(jiān)固耐用

11. 通入氣體可選 Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, others

離子源輔助蒸鍍運(yùn)行原理:

在蒸鍍時(shí), 通過 KRI 離子源的作用, 使Ar原子離化成Ar+, 產(chǎn)生輝光放點(diǎn)現(xiàn)象, 離子在電場(chǎng)中將蒸發(fā)出來的Al原子離化成Ar+, 這些等離子體在電場(chǎng)的作用下對(duì)基體進(jìn)行轟擊和鍍膜.

運(yùn)行結(jié)果：

蒸鍍中由于離子輔助技術(shù)的注入, 改善了蒸鍍鋁膜的組織, 基膜結(jié)合力高、耐腐蝕性更好、提高了合金的微動(dòng)疲勞抗力

上海伯東是美國(guó)考夫曼公司 KRI離子源的國(guó)內(nèi)總代理商, 其中KRI 離子源主要型號(hào)有:

KRI 射頻離子源 RFICP 系列： RFICP 380、RFICP 220、RFICP 140 、RFICP 100、 RFICP 40

KRI 考夫曼離子源 Gridded KDC 系列： KDC 160、KDC 100、KDC 75、KDC 40、KDC 10

KRI 霍爾離子源 Gridless eH 系列:eH 3000、eH 2000、eH 1000、eH 400、eH Linear

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